近来国内光刻机工业链的企业之一，传芯半导体揭露宣告已经有20余项EUV光刻机技能专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头号方面所获得的效果，国产EUV光刻机已获得了严重发展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及。

  光刻机之所以难，在于它是集许多职业的精华于一身，需求许多工业链企业一起合作才干量产，一台光刻机就有上万个元件，能够说仅仅光刻机自身便是一条相当大的工业链。

  此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研制团队就已研制出光刻机双工作台，由此我国成为全世界第二个能够出产双工作台的国家；此外激光头、镜头号厂商也连续出产出先进的组件，各个工业链企业的尽力正逐步完善国内的光刻机工业链。

  此刻传芯半导体揭露宣告已经有20余项EUV光刻机技能专利，意味着我国在更先进的EUV光刻机研制技能方面也已获得了严重打破。EUV光刻机的技能难度比其时正在霸占的DUV光刻机更大，在更先进的EUV光刻机都已获得技能打破的时分，DUV光刻机量产天然就更没难度了。

  我国在光刻机方面的技能敏捷打破，在于此前具有必定的根底，现实上在1990年代的时分，我国的光刻机技能与海外距离没有现在那么大，仅仅后来因为海外光刻机企业的日渐强壮，以及其时开展芯片工业时机未到，国产的光刻机工业链逐步凋谢，现在通过近十年时刻的尽力，国内光刻机工业链再度打通也就不在话下。

  我国在光刻机技能方面的快速打破，已让ASML感到忧虑，现实上此前在美国的许多压力下，ASML的高管就表明约束ASML向我国供给光刻机无助于全球工业链的开展，我国早晚能处理光刻机问题。

  关于ASML来说，我国商场对它含义严重，2021年和本年一季度我国商场为它贡献了三分之一的收入，已成为它的最大商场，如此大的商场，当然是ASML不能容易放弃的，现实本年一季度在许多压力下，ASML就紧迫对我国出货23台DUV光刻机，更计划在我国添加200名职工，以更好地为我国客户服务，获得更多商场。

  ASML另一重忧虑则是我国光刻机技能的加快速度进行开展，有几率会成为它的竞争对手，我国制作此前的现实再三证明，只需我国获得打破的技能，那么量产的产品往往比海外竞争对手的廉价许多，在本钱方面ASML底子就不是我国同行的竞争对手。

  我国除了持续研制光刻机之外，还在研制无需光刻机的芯片制作工艺，这方面已有日本做出演示，日本企业研制的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠选用，证明了无需光刻机也能出产芯片，而日本估计NIL工艺可用于5nm芯片的出产，假如这一工艺得到推行对ASML更是灭顶之灾。

  这些音讯都无不让ASML如鲠在喉，所以美国方面再三施加压力，可是ASML却一直都以为约束DUV光刻机没有多大含义，DUV光刻机已是多年前就已老练的技能，我国在DUV光刻机方面的发展将会更快，现在我国在EUV光刻机技能上的发展如此敏捷，显示出我国不仅在DUV光刻机技能方面发展敏捷，在更先进的EUV光刻机技能方面相同很快。